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在半導(dǎo)體制造中，晶圓表面缺陷與焊點(diǎn)質(zhì)量檢測是保障芯片良率與可靠性的核心環(huán)節(jié)。前者聚焦于納米級表面完整性，后者則關(guān)乎封裝結(jié)構(gòu)的電學(xué)與機(jī)械穩(wěn)定性。兩者通過光學(xué)、聲學(xué)及人工智能技術(shù)的深度融合，構(gòu)建起從晶圓制造到封裝測試的全流程質(zhì)量防線。一、晶圓表...
納米壓痕儀是一種用于材料力學(xué)性能表征的重要工具。它可以通過在材料表面施加微小載荷并測量其反應(yīng)來確定材料的硬度、彈性模量、塑性變形等指標(biāo)，是研究材料力學(xué)性能的重要手段之一。本文將介紹該儀器的原理、應(yīng)用和意義，并探討其在材料科學(xué)和工程中的重要性。納米壓痕儀的原理是利用金剛石壓頭在材料表面施加預(yù)定載荷，并測量載荷下材料表面的位移量，從而確定硬度、彈性模量和塑性指數(shù)等力學(xué)參數(shù)。具體而言，當(dāng)壓頭施加力時，會在材料表面產(chǎn)生類似于凹坑的形狀，同時會引起材料表面位移。應(yīng)用基于反向微分算法的壓...
膠水在工業(yè)生產(chǎn)和日常生活中被廣泛使用，但在膠粘劑固化后，常常會留下難以清除的殘留物。這些膠水殘留對產(chǎn)品外觀和性能都有負(fù)面影響，因此解決膠水殘留問題成為了一個緊迫而重要的任務(wù)。在眾多去膠技術(shù)中，等離子去膠技術(shù)以其高效、環(huán)保的特點(diǎn)日漸受到關(guān)注。等離子去膠技術(shù)是一種利用等離子體的高能量和反應(yīng)性來去除膠水殘留的方法。它通過將所需清潔的物體放置在等離子體發(fā)生器中，使膠水殘留的表面暴露在等離子體的作用下。等離子體釋放出的高能量粒子會與膠水殘留發(fā)生碰撞并破壞其分子結(jié)構(gòu)，從而去除膠水。該技術(shù)...
隨著電子產(chǎn)品的不斷發(fā)展，薄膜電阻在電路板、顯示器、傳感器等領(lǐng)域中得到了廣泛應(yīng)用。而對薄膜電阻進(jìn)行準(zhǔn)確測試是保證電子產(chǎn)品質(zhì)量和性能的關(guān)鍵。為此，薄膜電阻測試儀應(yīng)運(yùn)而生，成為提升電子產(chǎn)品質(zhì)量控制的重要工具。薄膜電阻測試儀是一種通過測量薄膜電阻的阻值和溫度系數(shù)，來評估薄膜電阻性能的設(shè)備。其原理基于電流-電壓（I-V）特性曲線的測量，通過施加電壓并測量相應(yīng)的電流來計算薄膜電阻的阻值。同時，通過改變環(huán)境溫度并測量電阻的變化，可以評估薄膜電阻的溫度系數(shù)。該儀器結(jié)構(gòu)緊湊，操作簡便，能夠快速...
薄膜厚度測量是材料科學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)中的重要環(huán)節(jié)。為了滿足對精確度、便攜性和操作簡便的需求，研究人員開發(fā)了一種精簡的薄膜厚度測量儀，該儀器能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的測量，為各行各業(yè)提供了一種快速準(zhǔn)確的測量解決方案。精簡薄膜厚度測量儀的原理基于光學(xué)干涉的原理。儀器主要由光源、分束器、樣品臺和檢測器組成。當(dāng)光線照射到待測薄膜表面時，一部分光線被反射，一部分光線穿過薄膜并在底部反射。通過檢測這兩束光線的干涉衍射現(xiàn)象，可以計算出薄膜的厚度。這種測量儀器具有結(jié)構(gòu)簡單、體積小巧、操作方便等優(yōu)點(diǎn)。它不需...
隨著科技的發(fā)展和應(yīng)用范圍的擴(kuò)大，薄膜材料在多個行業(yè)中得到了廣泛的應(yīng)用，如光學(xué)、電子、涂層等領(lǐng)域。而對薄膜材料的厚度進(jìn)行準(zhǔn)確測量是保證產(chǎn)品質(zhì)量和性能的關(guān)鍵。為此，自動化高速薄膜厚度測量儀應(yīng)運(yùn)而生，成為提升生產(chǎn)效率的重要工具。本文將介紹該測量儀的原理、特點(diǎn)以及其在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用。自動化高速薄膜厚度測量儀是一種通過非接觸式方法，對薄膜材料進(jìn)行高速、高精度測量的設(shè)備。其原理基于光學(xué)干涉或X射線吸收等技術(shù)，通過測量光或射線在薄膜表面的反射或透射情況，從而計算出薄膜的厚度。該儀器結(jié)構(gòu)緊...