當前位置：首頁 > 技術文章
硅片作為半導體、光伏及微電子等領域的核心材料，其厚度精度直接影響產(chǎn)品質(zhì)量與性能。不同應用場景對厚度測量提出多樣化需求，催生出一系列精準高效的測量技術。本文結合技術原理與實際應用場景，系統(tǒng)闡述多種硅片厚度測量方法。一、接觸式測量：機械與壓電技...
三維形貌儀作為表面微觀形貌分析的核心工具，其核心功能之一便是精準測量表面算術平均高度（Sa），這一參數(shù)是評估復雜三維表面粗糙度的重要指標。本文從技術原理、測量流程及應用場景三方面解析三維形貌儀在Sa參數(shù)測量中的關鍵作用。一、技術原理：白光干涉與共聚焦顯微技術的融合三維形貌儀通過非接觸式光學測量技術實現(xiàn)Sa參數(shù)的精確獲取。以白光干涉儀為例，其利用分束器將光源分為測量光束與參考光束，兩束光經(jīng)反射后重新匯聚形成干涉條紋，通過分析條紋間距與相位變化，可重建被測表面的三維形貌。共聚焦顯...
在微納加工領域，表面輪廓儀憑借其高精度、高分辨率的測量能力，成為保障加工質(zhì)量、優(yōu)化工藝參數(shù)的關鍵工具。加工質(zhì)量檢測微納加工要求的精度，哪怕是微小的表面缺陷都可能影響器件性能。表面輪廓儀能以納米級的分辨率對加工后的微納結構進行三維形貌測量。例如在光刻工藝中，可精確檢測光刻膠圖形的線寬、線高以及邊緣粗糙度，判斷是否符合設計要求。對于納米壓印技術，能清晰呈現(xiàn)壓印結構的完整性和均勻性，及時發(fā)現(xiàn)壓印不充分、圖案變形等問題，為產(chǎn)品質(zhì)量把控提供可靠依據(jù)。工藝參數(shù)優(yōu)化不同的加工工藝參數(shù)會對表...
在眾多需要控制振動的領域，減振臺發(fā)揮著至關重要的作用。然而，一個值得關注的問題是：減振臺座高是否會影響減振效率呢？要理解這個問題，首先得清楚減振臺座發(fā)揮減振作用的原理。它通常是通過彈性元件（如彈簧、橡膠墊等）和阻尼元件（如阻尼器）將振動能量消耗或轉(zhuǎn)化，從而達到減小振動的目的。其工作效果與振動源、臺座自身的材料、結構等多方面因素相關。一般來說，高度在一定程度上會對減振效率有影響。當高度較低時，彈性元件的行程可能相對較短。這在一些低頻、大振幅的振動情況下，可能無法充分發(fā)揮彈性元件...
橢圓偏振儀作為一種重要的光學儀器，在材料科學、光通信、薄膜研究等領域發(fā)揮著關鍵作用。它能夠精確測量薄膜的折射率、厚度等參數(shù)。然而，要想準確地對儀器的測量結果進行讀數(shù)，需要遵循一系列嚴謹?shù)牟襟E和技巧。在使用橢圓偏振儀進行測量前，準備工作至關重要。首先，要確保儀器的預熱，使其達到穩(wěn)定的工作狀態(tài)，避免因溫度變化等因素導致的測量誤差。同時，要檢查樣品的放置是否正確，保證樣品表面平整且與偏振光垂直，以確保測量結果的準確性。當儀器預熱完成后，啟動測量程序。在這個過程中，需要根據(jù)樣品的特性...
橢圓偏振儀作為現(xiàn)代材料表征的重要工具，通過光與物質(zhì)的相互作用，為薄膜厚度和光學常數(shù)的精確測量提供了特殊的解決方案。這種非破壞性測量技術能夠解析納米級薄膜的特性，在半導體、光學鍍膜和材料科學研究中發(fā)揮著關鍵作用。橢圓偏振測量的核心原理基于偏振光與薄膜樣品相互作用后偏振狀態(tài)的改變。當一束已知偏振狀態(tài)的單色光以特定角度入射到樣品表面時，會經(jīng)歷反射和折射過程。薄膜-基底系統(tǒng)的多層結構會改變光的振幅和相位，這種改變可以通過橢偏參數(shù)Ψ和Δ來量化描述?，F(xiàn)代橢圓偏振儀采用旋轉(zhuǎn)分析器或光彈性調(diào)...